基本情報

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吉村 智

YOSHIMURA Satoru


キーワード

プラズマ,イオンビーム

所属組織 【 表示 / 非表示

  • 1998年05月01日 ~ 2003年03月31日,工学研究科,助手,専任

  • 2003年04月01日 ~ 2007年03月31日,工学研究科 附属原子分子イオン制御理工学センター,助教授,専任

  • 2007年04月01日 ~ 2013年03月31日,工学研究科 附属原子分子イオン制御理工学センター,准教授,専任

  • 2013年04月01日 ~ 2013年04月15日,工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター,准教授,専任

  • 2013年04月16日 ~ 継続中,工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター,准教授,専任

学歴 【 表示 / 非表示

京都大学 理学部  卒業 理学士 1992年03月
京都大学 理学研究科 物理学第一専攻 修了 理学修士 1994年03月
京都大学 理学研究科 物理学・宇宙物理学専攻 単位取得満期退学 1997年03月
京都大学 理学研究科 物理学・宇宙物理学専攻 修了 博士(理学) 2000年01月

職歴 【 表示 / 非表示

大阪大学・助手 1997年04月 ~ 2003年03月
大阪大学・准教授 2003年04月 ~ 継続中

研究内容・専門分野 【 表示 / 非表示

  • 高温プラズマにおける計算機トモグラフィー, 高温プラズマの波動加熱, 低エネルギーイオンビーム
    プラズマ科学関連

所属学会 【 表示 / 非表示

  • スマートプロセス学会

  • プラズマ・核融合学会

  • 日本物理学会

  • 応用物理学会

  • 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会

 

論文 【 表示 / 非表示

  • Indium nano-particles deposition to zeolite powder by a pulse arc plasma processs for synthesizing catalysts,S. Yoshimura, Y. Nishimoto, S. Sugimoto, M. Kiuchi, M. Yasuda,The 8th International Symposium on Surface Science (ISSS-8), 22-26 October, 2017, Epochal Tsukuba, Tsukuba, Japan (6PN-113).,2017年10月,国際会議(proceedingsなし)

  • Catalytic property of an indium-deposited powder-type material containing silicon and its dependence on the dose of indium nano-particles irradiated by a pulse arc plasma process,S. Yoshimura, Y. Nishimoto, M. Kiuchi, Y. Agawa, H. Tanaka, M. Yasuda,AIP Advances,Vol. 7, No. 6, 065117-1-9, (2017).,2017年06月,学術論文

  • Low-energy mass-selected ion beam production of fragments produced from hexamethyldisiloxane for the formation of silicon oxide film,S. Yoshimura, S. Sugimoto, K. Murai, M. Kiuchi,Surface and Coatings Technology,Vol. 313, pp. 402-406, (2017).,2017年03月,学術論文

  • Low-energy SiC2H6+ and SiC3H9+ ion beam productions by the mass-selection of fragments produced form hexamethyldisilane for SiC film formations,S. Yoshimura, S. Sugimoto, K. Murai, M. Kiuchi,AIP Advances,Vol. 6, No. 12, 125029-1-6, (2016),2016年12月,学術論文

  • Low-energy mass-selected ion beam production of fragments produced from hexamethyldisilane for SiC film formation,S. Yoshimura, S. Sugimoto, M. Kiuchi,Journal of Applied Physics,Vol. 119, No, 10, 103302-1-4,2016年03月,学術論文

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学外運営 【 表示 / 非表示

  • 学会,応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会,幹事,2006年04月 ~ 2008年03月

  • 学会,社団法人 高温学会,評議員,2005年05月 ~ 2007年05月